МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ И ТЕХНОЛОГИЯ. ПОЛУПРОВОДНИКИ | |
ArticleName | Напряжение и адгезия поликристаллических пленок 3C–SiC, выращенных методом осаждения из газовой фазы на кремниевых подложках |
ArticleAuthor | Т. М. Ткачева, Л. М. Иванова, К. Д. Демаков, М. Н. Шахов |
ArticleAuthorData | МАДИ: Т. М. Ткачева М. Н. Шахов
НИЦ «Курчатовский институт»: Л. М. Иванова К. Д. Демаков |
Abstract | Поликристаллические пленки 3C−SiC на кремнии выращены методом CVD путем термического разложения метилтрихлорсилана в водороде при температуре 1000—1250 °С. Определены условия проведения процесса, при которых получены однородные с зеркальной поверхностью слои 3C−SiC с хорошей адгезией. Методом рентгеновской топографии исследована дефектная структура подложки монокристаллического кремния с нанесенной пленкой 3C−SiC. Установлено, что на всех проекционных топограммах контраст от упругих напряжений в точности повторяет морфологию пленки. Приповерхностные поля упругих напряжений в подложке уменьшаются по мере повышения температуры выращивания пленки 3C−SiC. Показано, что гетероструктура 3C−SiC очень чувствительна к термообработке. |
keywords | Поликристаллический карбид кремния, 3C−SiC, пленки, CVD, адгезия, напряжения |
References | 1. Орлов, Л. К. Особенности и механизмы роста пленок кубического карбида кремния на кремнии / Л. К. Орлов, Э. А. Штейнман, Т. Н. Смыслова, Н. Л. Ивина, А. Н. Терещенко // ФТТ. − 2012. − Т. 54, вып. 4. − С. 666—672. |
Language of full-text | russian |
Full content | Buy |