ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ СЛОИИ МНОГОСЛОЙНЫЕ КОМПОЗИЦИИ | |
ArticleName | Исследование однородности поверхностного сопротивления металлических пленок Ti, Al, Ni, Cr и Au на кремнии |
ArticleAuthor | К. Д. Ванюхин, С. П. Кобелева, Ю. А. Концевой, В. А. Курмачев, Л. А. Сейдман |
ArticleAuthorData | ИФЯЭ НИЯУ МИФИ: К. Д. Ванюхин Л. А. Сейдман
ФГАОУ ВПО «Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»: С. П. Кобелева
ФГУП «НПП «Пульсар»: Ю. А. Концевой В. А. Курмачев |
Abstract | Методом термического испарения в вакууме на пластины кремния КЭФ−20 с ориентацией (100), диаметром 100 мм нанесены наноразмерные пленки Ti, Al, Ni, Cr и Au. С помощью измерений толщины пленок и поверхностного электросопротивления четырехзондовым методом оценено значение и однородность распределения удельного электросопротивления металлических пленок. Показано, что удельное электросопротивление таких пленок заметно превышает этот параметр для объемных материалов. Наблюдаемое увеличение поверхностного сопротивления на краях пленки связано как с уменьшением толщины пленки, так и с ростом удельного электросопротивления материала пленки. Отработанные режимы использованы для получения металлических слоев на подложках из нитрида галлия. Работа ИФЯЭ НИЯУ МИФИ выполнена при частичной поддержке Минобрнауки России в рамках проекта «Разработка конструкции и промышленной технологии изготовления твердотельных компонентов на широкозонном материале GaN» № 138/2010У от 10.08.2010. Измерения поверхностного сопротивления выполнены на оборудовании ЦКП «Материаловедение и металлургия» НИТУ «МИСиС». |
keywords | Пленки Ti, Al, Ni, Cr, Au на Si; удельное электросопротивление металлических пленок |
References | 1. Куэй, Р. Электроника на основе нитрида галлия / Р. Куэй. − М. : Техносфера, 2011. − 592 с. |
Language of full-text | russian |
Full content | Buy |