• Acquire
Hide↑
Journals →  Materialy Elektronnoi Tekhniki →  2011 →  #3 →  Back

PHYSICAL CHARACTERISTICS AND THEIR STUDY
ArticleName Electron emission during reactive ionbeam etching of materials for electronic engineering
ArticleAuthor G. D. Kuznetsov, A. S. Kurochka, A. A. Sergienko, S. P. Kurochka
ArticleAuthorData G. D. Kuznetsov, National Research Technological University «MISiS»; A. S. Kurochka, OAO «FZMT»; A. A. Sergienko; S. P. Kurochka, National Research Technological University «MISiS».
Abstract

Results on secondary electron current during reactive ion beam etching of various materials have been presented. Theoretical and experimental values of secondary electron current as a function of plasma−forming medium composition, target atomic number, ion energy and ion flux have been provided. A secondary electron emission model has been suggested that takes into account the peculiarities of electron emission in cases when reactive gases are used.
keywords Ion−electron emission; reactive ion beam etching; secondary electron current; control of the etching process.
References

1. Sergienko, A. A. Ispol'zovanie ionno-elektronnoy emissii dlya kontrolya protsessa ionno-luchevogo travleniya sloistykh geterokompozitsiy / A. A. Sergienko, S. B. Simakin, G. D. Kuznetsov, B. A. Bilalov, R. Sh. Teshev // Materialy IV rossiysko-yaponskogo seminara «Perspektivnye tekhnologii i oborudovanie dlya materialovedeniya, mikro- i nanoelektroniki». - M.: MGIU, 2006. - S. 285—290.
2. Kurochka, A. S. Elektronnaya emissiya v protsesse reaktivnogo ionno-luchevogo travleniya materialov / A. S. Kurochka, A. A. Sergienko, G. D. Kuznetsov, S. B. Simakin // Tr. VII Mezhdunar. rossiysko-kazakhstano-yaponskoy nauchnoy konf. «Perspektivnye tekhnologii, oborudovanie i analiticheskie sistemy dlya materialovedeniya i nanomaterialov» - M. : MGIU, 2009. - S. 610—611.
3. Kislov, N. M. K modeli vtorichnykh elektronov iz metallov i poluprovodnikov pri ionnoy obrabotke poverkhnosti / N. M. Kislov, G. D. Kuznetsov, A. A. Sergienko, S. B. Simakin // Izv. vuzov. Materialy elektron. tekhniki. - 2004. - № 4. - S. 63—67.
4. Kurochka, A. S. Ionno-elektronnaya emissiya v protsesse ionno-luchevogo travleniya poverkhnosti materialov / A. S. Kurochka, A. A. Sergienko, N. A. Kharlamov, G. D. Kuznetsov // Tez. dokl. IV Mezhdunar. konf. «Kristallofizika XXI veka» - M. : IK RAN, 2010. - T. I. - S. 334—335.
5. Spravochnik khimika. / Pod red. B. P. Nikol'skogo - M. : Khimiya, 1979. - T. 1. - 642 s.
6. Ivanovskiy, G. F. Ionno-plazmennaya obrabotka / G. F. Ivanovskiy, V. I. Petrov - M. : Radio i svyaz', 1986. - 232 s.
7. Krapukhin, V. V. Tekhnologiya materialov elektronnoy tekhniki. Teoriya protsessov poluprovodnikovoy tekhnologii / V. V. Krapukhin, I. A. Sokolov, G. D. Kuznetsov - M. : MISiS, 1995. - 494 s.
8. Raspylenie tverdykh tel ionnoy bombardirovkoy - M.: Mir, 1986. - 488 s.
9. Berlin, E. V. Vakuumnaya tekhnologiya i oborudovanie dlya naneseniya i travleniya tonkikh plenok / E. V. Berlin, S. A. Dvinin, L. A. Seydman - M.: Tekhnosfera, 2007. - 176 s.
Language of full-text russian
Full content Buy
Back